Celal Topçu – Diriliş Postası

Gök bilimciler evrenin ilk dönemlerinde oluşan ve en hızlı "beslenen" kara deliği keşfetti Gök bilimciler evrenin ilk dönemlerinde oluşan ve en hızlı "beslenen" kara deliği keşfetti

Geleneksel DUV ve EUV litografi makinelerinden oldukça farklı olan bu yeni teknoloji, çip üretimi sürecini daha ekonomik ve enerji verimli hale getirme potansiyeli taşıyor.

Nanobaskı Litografi (NIL) nedir?

Nanobaskı litografi (NIL), geleneksel yöntemlerin aksine, çip üzerine ışıkla desen kazıma yerine doğrudan damgalama yöntemiyle baskı yaparak çalışır. Bu yöntem, karmaşık çip tasarımlarını tek bir adımda ve yüksek doğrulukla üretmeye olanak tanır. Optik sisteme duyulan ihtiyacı ortadan kaldırarak, üretim maliyetlerini düşürür ve enerji tüketimini azaltır. Canon'un yeni FPA -1200NZ2C modeli, bu devrimsel teknolojiyi kullanarak şu anda 5nm teknolojisiyle çipler üretebiliyor ve ileride 2nm seviyesine ulaşmayı hedefliyor.

TIE ve konsorsiyumun rolü

Canon'un FPA -1200NZ2C makinesi, TIE'deki Intel, NXP ve Samsung gibi büyük yarı iletken üreticileri tarafından araştırma ve geliştirme amaçlı kullanılacak. Bu konsorsiyum, NIL teknolojisinin yeteneklerini inceleyerek, gelecekteki çip üretim süreçlerinde bu yöntemi benimsemeyi amaçlıyor. TIE ayrıca DARPA tarafından destekleniyor ve 1,4 milyar dolarlık bir hibe ile çoklu çiplet tasarımlı 3D işlemciler geliştirme görevini üstlenmiş durumda. Bu durum, nanobaskı litografinin askeri ve sivil uygulamalarda önemli bir rol oynayabileceğini gösteriyor.

Nanobaskı Litografinin avantajları ve zorlukları

NIL teknolojisinin en büyük avantajlarından biri, geleneksel litografiden daha ucuz ve enerji açısından verimli olmasıdır. Ancak bu teknoloji bazı zorluklarla da karşı karşıya. Örneğin, üretim sırasında toz parçacıklarının neden olduğu kusurları en aza indirme sorunu henüz tam olarak çözülebilmiş değil. Ayrıca, NIL'in mevcut DUV ve EUV teknolojileriyle uyumlu olmaması, üreticilerin altyapılarını baştan tasarlamalarını gerektiriyor, bu da yüksek maliyet ve risk içeriyor.

Canon, NIL teknolojisinin endüstri tarafından kabul görmesi için diğer şirketlerle iş birliği yapmaya büyük önem veriyor. Şirket, önümüzdeki 3 ila 5 yıl içinde bu teknolojinin daha yaygın kullanılacağını ve yıllık 10 ila 20 adet satış hedeflediğini belirtiyor.

Canon'un nanobaskı litografi teknolojisi, çip üretiminde yeni bir çağ başlatma potansiyeline sahip. Bu teknoloji, hem maliyetleri düşürebilir hem de daha küçük ve güçlü çiplerin üretilmesine olanak tanıyabilir. Ancak, yaygın kabul görmesi için bazı zorlukların üstesinden gelinmesi gerekiyor. Yine de Canon, NIL'in geleceği konusunda oldukça umutlu ve bu teknolojiyi çip üretim sektöründe devrim yaratacak bir yenilik olarak görüyor.

Editör: Celal Topçu