Nvidia'nın bir numaralı ismi Jensen Huang, katıldığı The All-In Podcast yayınında çip endüstrisinin geleceğine ve küresel rekabete dair önemli açıklamalarda bulundu. Huang, Çin'in teknolojik kapasitesini öne çıkararak, ülkenin kendi gelişmiş yarı iletken cihazlarını ve litografi sistemlerini 2030 yılına kadar tamamen kendi imkanlarıyla üretebilecek seviyeye geleceğini iddia etti. Yakın zamanda Donald Trump ile de yapay zeka yatırımlarının yavaşlamaması gerektiği yönünde ortak bir mesaj veren yönetici, Çin'in seri üretim gücünün ve ölçek büyütme hızının göz ardı edilmemesi gerektiğinin altını çizdi.
Çin İçin 2030 Hedefi Uzak Değil Podcast sırasında Çin'in teknoloji dünyasındaki konumunu değerlendiren Huang, ülkenin devasa üretim potansiyeline dikkat çekti. Rakipler arasındaki birkaç yıllık farkın, uzun vadeli çip yarışında çok küçük bir detaya dönüştüğünü savunan yönetici, Çin hükümetinin yerli ekipman üretme hedefine oldukça yaklaştığını vurguladı. Huang geçmişte de ülkenin yapay zeka alanındaki gelişimini Amerikan laboratuvarlarının hemen arkasında gördüğünü belirterek, Ar-Ge yatırımlarının gücüne işaret etmişti.
Yerli Litografi ve 28 Nanometre Engeli Nvidia yöneticisinin bu iddialı tahminine rağmen, sektördeki teknik veriler ve uzman görüşleri daha temkinli bir yaklaşıma sahip. Çin'in en büyük litografi ekipmanı üreticisi SMEE, şu an için 90 nanometre çiplerin üretimine imkan sağlayan sistemleri piyasaya sürebiliyor. Şirketin 28 nanometre seviyesinde çalışan daha gelişmiş cihazlar ürettiği ve teslimatlara başladığı bilinse de, bu sistemlerin dev fabrikalarda kesintisiz ve yüksek hacimli seri üretimde kullanıldığına dair kesin bir kanıt bulunmuyor. Bu tür hassas cihazların üretim bantlarına entegre edilmesi ve onaylanması normal şartlarda uzun yıllar alıyor.
EUV Teknolojisinde Gidilmesi Gereken Uzun Bir Yol Var Çinli şirketler bu yeni nesil sistemleri fabrikalarına kursa bile, geniş çaplı üretimin 2028 veya 2029 yılından önce başlaması pek mümkün görünmüyor. Üstelik geliştirilen bu cihazlar, dünya devi ASML'nin eski nesil sistemleriyle ancak rekabet edebilecek seviyede. Sektörün asıl zorlu zirvesi olan aşırı ultraviyole (EUV) teknolojisinde ise aradaki uçurum çok daha büyük. Çinli araştırmacılar gerekli lazer mekanizmaları üzerinde çalışmaya devam etse de, henüz tam anlamıyla çalışan bir EUV sistemi prototipi ortaya konabilmiş değil.
Hassas Mühendislik ve Küresel Rekabet Gelişmiş bir litografi cihazının çalışması; nanometre seviyesinde hizalama, optik yansıtma ve kusursuz bir ölçüm teknolojisi gerektiriyor. Bu kadar karmaşık bir sistemi alt seviyelerde tam olarak oturtmadan doğrudan en üst düzeye çıkarmak mühendislik açısından neredeyse imkansız görülüyor. Diğer yandan küresel pazarın devleri teknoloji sınırlarını zorlamaya devam ediyor. Örneğin TSMC'nin 2030 yılında 1 nanometre sınıfı üretime geçiş yapma planları, rekabeti çok daha üst bir seviyeye taşıyor. Ancak ABD'nin yaptırımlarına karşı teknolojik bağımsızlığı devlet politikası haline getiren Çin yönetiminin, yapay zeka alanındaki hızlanma ihtiyacıyla bu engelleri aşmak için süreci zorlayabileceği de değerlendiriliyor.